हार्ड एनोडाइजिंग लाइन, एल्यूमीनियम घटकों के लिए कस्टम टाइप III हार्ड कोट | MEI-AL टेक्नोलॉजी

यह हार्ड एनोडाइजिंग लाइन औद्योगिक एल्यूमीनियम घटकों के लिए डिज़ाइन की गई है, जिन्हें मोटी, पहनने के प्रतिरोधी टाइप III हार्ड कोट की आवश्यकता होती है।,प्रक्रिया टाइप II सजावटी एनोडाइजिंग की तुलना में अधिक वोल्टेज और वर्तमान घनत्व के साथ काम करती है।

यह प्रणाली 20 से 80 माइक्रोन तक की फिल्म मोटाई का उत्पादन करती है, जिसमें 100 माइक्रोन तक के कॉन्फ़िगरेशन उपलब्ध हैं। सतह की कठोरता आमतौर पर HV 400 से 600 तक पहुंचती है। हाइड्रोलिक पिस्टन, गियर, मोल्ड पार्ट्स के लिए आदर्श है,पहनने के प्रतिरोधी घटकों, सैन्य संरचनात्मक भागों और अन्य औद्योगिक अनुप्रयोगों में उच्च कठोरता और पहनने के प्रतिरोध की आवश्यकता होती है।

अलग-अलग इलेक्ट्रोलाइट और प्रक्रिया स्थितियों के कारण, इस हार्ड एनोडाइजिंग लाइन के लिए समर्पित उच्च वोल्टेज रेक्टिफायर, उच्च क्षमता वाले निम्न तापमान वाले चिलर और अलग-अलग प्रक्रिया टैंक की आवश्यकता होती है।कठोर एनोडाइज्ड भागों में सजावटी रंग के बजाय सामान्य रूप से प्राकृतिक काले या भूरे रंग की उपस्थिति होती हैभाग के आकार, रैकिंग विधि, फिल्म की मोटाई और चक्र समय की आवश्यकताओं के आधार पर उत्पादन क्षमता को अनुकूलित किया जाता है।

1. लोडिंग और रैक
2. वसा घटाना
3. कुल्ला करना
4. आवश्यकतानुसार क्षारीय उत्कीर्णन/तटस्थीकरण
5. कुल्ला करना
6. हार्ड एनोडाइजिंग, टाइप III, कम तापमान पर सल्फ्यूरिक एसिड
7. कुल्ला करना
8. सील करना
9. सूखना
10. अनलोडिंग

• निम्न तापमान पर सल्फ़्यूरिक एसिड के साथ विशेष प्रकार III हार्ड एनोडाइजिंग प्रक्रिया
• फिल्म की मोटाई 20×80 μm, विशिष्ट विन्यास में 100 μm तक
• सतह कठोरता आमतौर पर HV 400 ∼ 600
• उच्च वोल्टेज रेक्टिफायर और उच्च क्षमता वाले चिलर हार्ड एनोडाइजिंग लोड के अनुरूप
• इलेक्ट्रोलाइट क्रॉस-कंटॉमिनेशन से बचने के लिए अलग-अलग प्रक्रिया टैंक
• रेसिपी भंडारण और तापमान नियंत्रण के साथ पीएलसी नियंत्रण
• रखरखाव और विशेष उत्पादन स्थितियों के लिए मैनुअल ओवरराइड
• प्रक्रिया स्थिरता और पर्यावरण नियंत्रण के लिए निस्पंदन और निकास प्रणाली
• हाइड्रोलिक, गियर, मोल्ड और पहनने के प्रतिरोधी औद्योगिक भागों के लिए उपयुक्त
• पर्यावरण आवश्यकताओं के अनुसार सीलिंग विकल्पों का चयन किया जा सकता है

• लोडिंग/लॉडिंग लिफ्ट और क्रेन प्रणाली
• प्रवाहकीय प्रणाली और रैक
• प्रक्रिया टैंक: डीग्रिजिंग, एटिंग/न्यूट्रलाइजेशन, हार्ड एनोडाइजिंग, कुल्ला, सीलिंग
• टैंक के जंग रोधी अस्तर, हलचल प्रणाली, हीटिंग/कूलिंग प्रणाली
• समर्पित उच्च वोल्टेज रेक्टिफायर/उच्च धारा रेक्टिफायर
• उच्च क्षमता वाले निम्न तापमान वाले शीतलक
• माइक्रोन पीपी निस्पंदन
• अम्लीय धुएं के निकास और उपचार
• रेसिपी भंडारण और तापमान नियंत्रण के साथ पीएलसी नियंत्रण प्रणाली
• अपशिष्ट जल उपचार प्रणाली
• हार्ड एनोडाइजिंग के लिए अलग इलेक्ट्रोलाइट टैंक; टाइप II एनोडाइजिंग के साथ साझा नहीं

उत्तरः टाइप II एक सजावटी सल्फ़्यूरिक एसिड एनोडाइज़िंग प्रक्रिया है, आमतौर पर 815 μm। टाइप III कठिन एनोडाइज़िंग है, आमतौर पर 2080 μm, उच्च कठोरता और पहनने के प्रतिरोध के साथ।

A: 20 ¢ 80 μm विशिष्ट विन्यासों में उपलब्ध 100 μm तक के साथ विशिष्ट है।

A: हार्ड एनोडाइजिंग में आमतौर पर 0°5°C पर कम तापमान पर सल्फ्यूरिक एसिड का प्रयोग किया जाता है, जिसे उच्च क्षमता वाले चिलर द्वारा नियंत्रित किया जाता है।

A: कठोर एनोडाइज्ड भागों को आम तौर पर सजावटी एनोडाइजिंग के समान तरीके से रंगा नहीं जाता है। प्राकृतिक काला या ग्रे उपस्थिति आम है।

A: नहीं. हार्ड एनोडाइजिंग के लिए अलग-अलग प्रक्रिया टैंक की आवश्यकता होती है और टाइप II सल्फ्यूरिक एसिड एनोडाइजिंग के साथ इलेक्ट्रोलाइट साझा नहीं किया जा सकता है।

A: पोटेशियम डाइक्रोमेट सीलिंग या निम्न तापमान सीलिंग पर्यावरण आवश्यकताओं के अनुसार कॉन्फ़िगर की जा सकती है।

भाग के आकार, रैकिंग विधि, फिल्म की मोटाई, कठोरता आवश्यकताओं, क्षमता और कारखाने की स्थिति के आधार पर एक अनुकूलित हार्ड एनोडाइजिंग लाइन लेआउट और प्रक्रिया समाधान प्राप्त करें।हमारी इंजीनियरिंग टीम ऑपरेशन मोड को कॉन्फ़िगर कर सकती है, टैंक का लेआउट, उच्च वोल्टेज रेक्टिफायर, निम्न तापमान शीतलक, फिल्टरेशन, निकास और अपशिष्ट जल उपचार तदनुसार।